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小型単元スタッパ装置

小型単元スパッタ装置

■概要
本スパッタ装置は小型で容易な操作ながら高品質のスパッタ薄膜が得られるコストパフォーマンスに優れた装置です。
また、豊富なオプションにより金属・半導体・絶縁物・磁性体など幅広い材料の薄膜が得られます。

小型単元スパッタ装置

2”スパッタガン



■特長
1.小型軽量なため、取扱いが容易であると共に排気が早く、スパッタ成膜まで短時間で到達します。
2.磁場に工夫を加えたスパッタガンにより磁性材料にも対応可能です。
3.低価格・省スペースでコストパフォーマンスに優れています。


構成 主な仕様
チェンバー及び排気系 ・チェンバー:φ200×400 SUS304
・主ポンプ :700L/sターボ分子ポンプ
・到達圧力 :5×10-5Pa
・ゲージ  :ピラニゲージ及びペニングゲージ
・ポート  :排気・スパッタガン1基(1”スパッタガンの場合3基まで可能)
       基板交換ハッチ
・操作   :手動
スパッタ源 ・2”スパッタガン
・300W DC電源(パワー設定可能)
 或いはマッチングボックス付300W RF電源
基板ステージ ・収納基板 :最大φ2”
・300℃或いは800℃加熱機構(オプション)
ガス導入機構 10SCCMマスフローコントローラー
 注)尚、性能向上のため予告なく仕様を変更する事があります。

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