ファイファーバキューム社四重極質量分析計

PrismaPlus QGM220 / 四重極質量分析計

四重極質量分析計
(QGM220）

・分析管とコントローラーが一体型
・モジュラー構成により多彩なアプリケーションに適合
・一つの測定ファイルで128チャンネルを割り当て可能
・8桁以上の大きなダイナミックレンジ
・最速2msの高速測定

■製品仕様

QMG220	F1	M1	F2	M2	F3	M3
マスレンジ	1-100	1-100	1-200	1-200	1-300	1-300
ディテクタ	ファラデー
ディテクタ	―	チャンネルトロン	―	チャンネルトロン	チャンネルトロン	―
検出限界(Pa) ファラデー/ チャンネルトロン	1×10^-10	5×10^-10	2×10^-10	1×10^-9	4×10^-10	2×10^-9
検出限界(Pa) ファラデー/ チャンネルトロン	―	1×10^-12	―	<2×10^-12	―	<4×10^-12
感度:Ar(A/Pa) ファラデー/ チャンネルトロン	1×10^-5	5×10^-6	6×10^-6	3×10^-6	3×10^-6	1.5×10^-6
感度:Ar(A/Pa) ファラデー/ チャンネルトロン	―	2	―	2	―	1
許容最大圧力(Pa) ファラデー/ チャンネルトロン	1×10^-2	1×10^-2	1×10^-2	1×10^-2	1×10^-2	1×10^-2
許容最大圧力(Pa) ファラデー/ チャンネルトロン	―	1×10^-3	―	1×10^-3	―	1×10^-3
隣接ピーク寄与率 Mass40/41 (ppmppm)	<10	<10	<20	<20	<50	<50

■PrismaPlus型質量分析装置の推薦メンテナンス間隔

メンテナンス内容	メンテナンス間隔			ユーザー作業※
(QGM220F,QGM220M型)	6ヶ月	12ヶ月	24ヶ月	可否
空冷ファンフィルター清掃	○	○	○	○
フィラメント交換	―	△	○	○
分析管オーバーホール	―	―	○	×
チャンネルトロン交換(QGM220M)	―	―	△	×

(付属周辺装置)	12ヶ月	24ヶ月	48ヶ月	可否
ターボ分子ポンプオイルリザーバ－交換 (HiPace80型)	―	―	○	○
ターボ分子ポンプオーバーホール (HiPace80型）	―	―	○	×
メンブレンポンプオーバーホール (015・020型)	△	○	○	×
ロータリーポンプオイル交換	△	○	○	○
ロータリーポンプオーバーホール	―	○	○	×
真空計オーバーホール (PKR型)	―	○	○	×

○：メンテナンス推薦
△：劣化時（メンブレンポンプ：稼働合計時間MVP015型半年以上、MVP020型1年以上）
注：推薦メンテナンス間隔は稼働時間・使用するガス種・圧力により異なりますので参考値となります。
※：ユーザーによる作業は事前トレーニングが必要です。

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OmniStar ＆ ThermoStar GSD320 / ベンチトップガスモニター

・２段減圧方式により高速レスポンス・マスディスクリミネーションを防止
・最大200℃、オプションで350℃での温度制御ヒータ付きキャピラリ付属
・ガスタイト型イオン源の採用により少量の導入ガスを効率良くイオン化
・100％酸素導入も可能
・マトリクス濃度計算による定量分析
・温度等外部信号の取り込み
・スレッシュホールド機能により外部機器を制御

■製品仕様

機種	OmniStar	ThemoStar
測定質量数	100
	200
	300
キャピラリ材質	ステンレス	石英
ガス導入	バルブ制御可能	連続導入 (メモリ効果防止)
ガス流量(sccm)	1～2

■Omnistar-Thermostar型ガス分析装置の推薦メンテナンス間隔

メンテナンス内容	メンテナンス間隔				ユーザー作業※
(GSD300型,GSD301型)	6ヶ月	12ヶ月	24ヶ月	48ヶ月	可否
空冷ファンフィルター類、本体内部清掃	○	○	○	○	○
フィラメント交換	―	△	○	○	○
分析管オーバーホール	―	―	△	○	×
チャンネルトロン交換	―	―	△	△	×
分析チャンバー、導入フランジ洗浄	―	―	○	○	×
キャピラリー・オリフィス交換	△	△	○	○	○
オイルリザーバ－交換	―	―	―	○	○
ターボ分子ポンプオーバーホール	―	―	―	○	×
メンブレンポンプオーバーホール	―	△	○	○	×
真空計オーバーホール	―	―	○	○	×

○：メンテナンス推薦
△：劣化時（メンブレンポンプ：稼働合計時間GSD320型1年以上）
注：推薦メンテナンス間隔は稼働時間・使用するガス種・圧力により異なりますので参考値となります。
※：ユーザーによる作業は事前トレーニングが必要です。

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Sputter Process Monitor SPM220 / プロセスモニター

・プロセスコントロール用差動排気型質量分析計
・プロセスガスの純度・不純物の測定
・プロセス圧力でイオン化する独自構造のSPMイオンソースにより、分析チャンバー内の水分等残留ガスによる
　影響を徹底的に排除
・プロセス室の変化に高速応答
・40eVのイオン化電圧により二価イオンを抑制

■製品仕様

機種	Sputter Process Monitor SPM220
質量分析範囲	1～100amu、1～200amu
対応プロセス圧力	1Pa以下(標準)
検出器	C-SEM/Faraday
接続フランジ	DN40CF-F(ICF70CF)
測定チャンネル数	128ch(MID時系列モード)
測定速度	アナログ・バーグラフ：20ms/amu(Min.)
測定速度	ステア・MID(Dwell)：2ms(Min.)
ターボ分子ポンプ	HiPace80 with TC110RS(4 acc.ports)
粗引きポンプ	MVP020-3(メンブレン)
最小検知感度 (Ar中、1～100amu型)	CO2：100ppb以下
	水素：3,000ppb以下
	窒素：100ppb以下
	酸素：100ppb以下
	H2O：500ppb以下
動作電圧	単相100V/200V、50/60Hz
重量	13kg(本体+ダーボ分子ポンプ)
インターフェース	イーサネット
動作OS	Windows 7Pro 8.1(32,64bit) 10(32,64bit)